集束イオンビームと走査型電子顕微鏡を組み合わせた試料作製およびマイクロ分析用装置
FEIのDualBeam装置は、走査型電子顕微鏡の画像処理機能および分解能と、集束イオンビームツールのミリング機能を兼ね備えています。この高性能装置は、3次元顕微鏡および分析で行う材料キャラクタリゼーション、工業向け故障解析、プロセス制御アプリケーションにおいて推奨されるソリューションです。これらは、高スループットの半導体およびデータストレージ工場、材料科学およびライフサイエンス研究において1 nm以下の試料作製およびマイクロ分析を実現します。
Wafer DualBeam装置については、
特殊製品ページをご覧ください。